随着大规模集成电路的发展,对氯化氢纯度的要求越来越高。 除了具有大于99.999%的纯度之外,对杂质含量的要求也变得越来越严格,特别是对于对烃和碳氧化物的严格限制,以便防止在硅晶片的处理期间形成C。 过去,我国大部分地区从其他国家进口电子级氯化氢。 然而,近年来,在电子工业所需的化学气体的开发中有许多技术上的突破和发展。 国内也有一些单位成功开发了相关的电子级氯化氢产品。在普通电解池中,通过氯化氢处理除去杂质后,产生的氢气的纯度可达到99.4%,液化后进入合成炉的尾氯纯度可达到约97.5%。为了确保纯度,必须严格控制氯化氢处理的控制点,以确保氢和氯的水分指标符合减少合成炉灯头腐蚀的要求。
因此,必须很好地控制和掌握此过程,以生产满足要求的高纯氯化氢气体。
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